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纳米印章制作更小,更便宜的芯片

发布时间:2017-03-09 01:06:13来源:未知点击:

Will Knight使用微观“印章”在硅上印刷纳米级特征的新方法可以使更复杂的计算机芯片制造得比目前更快,更便宜目前,Microchip使用光刻法制造这种基于光的工艺可以产生100纳米的尺寸,但是进一步缩小尺寸预计会非常复杂和昂贵新方法Laser-Assisted Direct Imprint(LADI)由普林斯顿大学的一个团队开发它不那么复杂,速度更快,并且已经可以创建仅10纳米的功能创建具有所需印记的石英模具并将其放置在硅的顶部通过模具发射的激光脉冲熔化硅的顶层,并允许模具以所需结构压印它要创建功能齐全的芯片,必须在芯片的顶层构建多层硅,并且必须添加金属元件半导体行业出版物微处理器报告的高级分析师Markus Levy表示,将新方法纳入现有技术很难,但相信它可以简化制造 “在最简单的层面上,使用这种新技术在形成集成电路之前对晶圆进行评分可以大大降低分离芯片的成本,”Levy告诉“新科学家”杂志加利福尼亚州斯坦福大学的Fabian Pease表示,新方法仍需要改进例如,他说,目前还不清楚如何在印迹硅之上构建其他组件但他表示,如果能够解决这些问题,这种新方法可能会给计算机行业带来新的生机 “基于成本,速度和分辨率,LADI或其他形式的机械印刷,可能取代光学投影作为塑造硅芯片的首选制造技术,”Pease在自然杂志上发表的一篇文章中写道目前的光刻技术涉及通过带有芯片设计的掩模和一系列透镜将紫外光照射到硅片顶部的光敏层上然后可以使用该模板将芯片的特征化学“蚀刻”到硅上期刊参考:自然(第417卷,